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德國韋氏納米系統(tǒng)有限公司
中級會(huì)員 | 第9年

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  • 薄膜沉積系統(tǒng)

    Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺(tái)上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜。*的反應(yīng)器設(shè)計(jì)可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺(tái)階覆蓋的低應(yīng)力薄膜。該系...

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    薄膜沉積薄膜沉積系統(tǒng)
  • PECVD沉積

    PECVD沉積可選配一個(gè)三極管(Triode)或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子,從而控制薄膜應(yīng)力。

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    薄膜沉積PECVD沉積
  • Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    型號(hào): Trion Ori... 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2019/1/15 17:32:51 對比
    化學(xué)氣相沉積沉積系統(tǒng)薄膜沉積

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